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射频溅射技术分析
发布时间:2015-01-19 浏览:3031 次

  射频溅射就是利用射频放电等离子体里面的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子从而沉积在接地的基板表面的技术,和镀膜技术又不是一样的。

万祥彩票开户  真空镀膜设备公司介绍,使用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统,因为常用的交流电源的频率在射频段。

  如13.56MHz,所以称为射频溅射。

  在直流溅射装置中,若采用绝缘材料靶的时候,轰击靶面得正离子会在靶面上累积,使其带正电,靶电位从而上升,使得电极间的电场逐渐变小,直至辉光放电熄灭和溅射停止,所以直流溅射装置不能用来溅射沉积绝缘介质薄膜。

  为溅射沉积绝缘材料,人们可以将直流电源换成交流电源,因为交流电源的正负性发生周期交替,当溅射靶处于正半周时,电子流向靶面,中和其表面积累的正电荷,并且积累电子,使其表面呈现负偏压,导致在射频电压的负半周期时吸引正离子轰击靶材,从而实现溅射。

  由于离子比电子质量大,迁移率小,不像电子那样很快地向靶表面集中,所以靶表面的点位上升缓慢,由于在靶上会形成负偏压,所以射频溅射装置也可以溅射导体靶。

  在射频溅射装置中,等离子体里面的电子很容易在射频场中吸收能量并在电场内振荡,因此,电子与工作气体分子碰撞并使之电离产生离子的概率变大,故使得击穿电压、放电电压及工作气压显著降低。

 

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